机译:使用XR-1541 / PMMA剥离工艺的电子束光刻技术制备石墨烯纳米带
机译:通过一步电子束光刻工艺制备高度规则的悬浮石墨烯纳米带
机译:HSQ / PMMA双层抗蚀剂的电子束光刻技术,用于负色调剥离工艺
机译:高电子迁移晶体管制造中的T型栅极的单步电子束光刻归档
机译:使用SEM的电子束光刻制造SAW器件和实验室使用的剥离技术
机译:用于电子束光刻应用的纳米电子器件的制造和表征。
机译:化学剥离光刻技术制备的大面积超薄金属氧化物半导体纳米带阵列
机译:使用XR-1541 / PMMA剥离工艺用电子束光谱制造石墨烯纳米孔的制造
机译:用于制造亚半微米栅极长度mmIC芯片的组合电子束/光学光刻工艺步骤