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机译:在具有InxAl1-xSb连续渐变缓冲层的GaAs(001)衬底上生长的高质量100 nm厚InSb膜
机译:在具有InxAl1?xSb连续渐变缓冲层的GaAs(001)衬底上生长的高质量100 nm厚InSb膜
机译:通过厚AlSb和InxAl1-xSb分级梯度缓冲液在GaAs衬底上生长的高质量高度不匹配的InSb膜
机译:在具有In_xAl_(1-x)Sb连续梯度缓冲液的GaAs(1 0 0)衬底上生长的高质量0.41μm厚InSb膜的结构和电学性质
机译:通过AL_(0.09)在GaAs(001)底物上生长的INSB量子孔中的结构缺陷(0.09)IN_(0.91)SB / GASB-ALSB应变层超晶格/ ALSB / GASB缓冲层
机译:在常规和LEO基板上通过CVD生长的氮化镓厚膜的微观结构。
机译:GaAs(001)上生长的高质量100 nm厚InSb膜具有InxAl1-xSb连续渐变缓冲层的基板
机译:高质量100nm厚的INCB薄膜在GaAs(001)底板上,具有inxal1-xsb连续分级缓冲层