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机译:通过化学气相沉积(CVD)的硅化作用改善碳钢的性能
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积的类金刚石碳(DLC)膜的纳米力学和电化学性质
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积类金刚石碳(DLC)薄膜的纳米力学和电化学性能
机译:在微流体分配器设备中作为牺牲层的亚大气化学气相沉积(SACVD)O3-TEOS UGS,BPSG,PSG和等离子增强化学气相沉积(PECVD)PSG膜的研究
机译:通过热化学气相沉积(CVD)在工具钢基材上生长碳纳米管
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:偏压对电子回旋共振等离子体在CoCrMo合金上制备的氢化非晶碳膜性能的影响增强了化学气相沉积(ECR-PECVD)