...
机译:使用光学光刻和取向依赖性氧化制造的全控制硅纳米线
Newcastle Univ Sch Engn Newcastle Upon Tyne NE1 7RU Tyne & Wear England|Imperial Coll London Dept Mat London SW7 2AZ England;
Univ Durham Dept Phys Durham DH1 3LE England;
Newcastle Univ Sch Engn Newcastle Upon Tyne NE1 7RU Tyne & Wear England|Aston Univ Sch Life & Hlth Sci Birmingham B4 7ET W Midlands England;
Newcastle Univ Sch Engn Newcastle Upon Tyne NE1 7RU Tyne & Wear England|Shenzhen Univ Univ Coll Phys & Optoelect Engn Shenzhen 518060 Peoples R China;
Newcastle Univ Sch Engn Newcastle Upon Tyne NE1 7RU Tyne & Wear England;
Newcastle Univ Sch Engn Newcastle Upon Tyne NE1 7RU Tyne & Wear England;
Semiconductor; Nanowires; Wet etching; Optical lithography; Thermal oxidation; Top-down;
机译:氢氧化四甲铵/异丙醇湿法刻蚀对AFM光刻制备的硅纳米线的几何形状和表面粗糙度的影响
机译:氧化诱导的拉伸应变对深紫外光刻技术制备的全栅硅纳米线单电子晶体管的影响
机译:纳米线光刻:使用Au-Ag-Au纳米线制造可控制的电极间隙
机译:使用光学光刻和取向依赖性蚀刻对自上而下硅纳米线制造的处理模块的优化
机译:硅衬底上取向可控的外延气液固半导体纳米线合成
机译:氢氧化四甲铵/异丙醇湿法刻蚀对AFM光刻制备的硅纳米线的几何形状和表面粗糙度的影响
机译:四甲基氢氧化铵/异丙醇湿蚀刻对aFm光刻制备的硅纳米线几何形状和表面粗糙度的影响