机译:直流磁控溅射与高功率脉冲磁控溅射沉积的p型NiO薄膜的光电性能
Ming Chi Univ Technol Dept Mat Engn Taipei 243 Taiwan|Ming Chi Univ Technol Ctr Plasma & Thin Film Technol Taipei 243 Taiwan|Chang Gung Univ Coll Engn Taoyuan 333 Taiwan;
Natl Taiwan Univ Inst Mat Sci & Engn Taipei 106 Taiwan;
China Steel Corp New Mat R&D Dept Kaohsiung 812 Taiwan;
Shandong Univ Sch Space Sci & Phys Shandong Key Lab Opt Astron & Solar Terr Environm Weihai 264209 Shandong Peoples R China;
p-type NiO films; High power impulse magnetron sputtering; Optoelectronic properties; Oxygen flow ratio;
机译:通过高功率脉冲磁控溅射沉积的P型NiO膜光电性能提高电离的贡献
机译:直流磁控溅射沉积沉积的备用合金薄膜中微结构和磁性的比较和高功率脉冲磁控溅射
机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射沉积在柔性基板上的TiO_2薄膜的性能
机译:通过直流反应磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射(Hipims),织地织地织地造成的ALN薄膜的生长沉积在Si(100)上沉积在Si(100)上
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:反应堆磁控溅射沉积p型缺铜Cu Cr0.95-xMg0.05 O2薄膜的光电性能
机译:通过高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜