机译:双层TiO_2 / WO_3溅射膜中增强的紫外线光电检测器性能
Indian Inst Informat Technol Design & Mfg Kanchee Dept Phys Off Vandalur Kelambakkam Rd Chennai 600127 Tamil Nadu India;
Korea Adv Inst Sci & Technol NNFC Dept Nanostruct Mat Res 291 Daehak Ro Daejeon 34141 South Korea;
Gachon Univ Dept Nanophys 1342 Seongnamdaero Seongnam Si 461701 Gyeonggi Do South Korea;
SRM Inst Sci & Technol Dept Phys & Nanotechnol Kattankulathur 603203 Tamil Nadu India;
TiO2/WO3 film; Bi-layer; Oxygen vacancies; Photocurrent; Responsivity;
机译:双层TiO_2 / WO_3溅射膜中增强的紫外线光电检测器性能
机译:溅射压力对WO_3薄膜UV光电探测器性能的影响
机译:WO3溅射薄膜的氧分压依赖性UV光电探测器性能
机译:使用通过反应溅射产生的TiO_2 / WO_3双层薄膜光催化降解罗丹明6g
机译:TiO_2薄膜的反应溅射沉积工艺分析参见用法统计
机译:基于磁控溅射沉积的可转移WS2膜的高响应紫外可见光探测器
机译:光电探测器:通过压电界面工程(ADV。MARTION 23/2019)增强PVK / ZnO纳米棒/石墨烯异质结构UV光电探测器的性能。