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Selective etching of PDMS: Etching technique for application as a positive tone resist

机译:PDMS的选择性蚀刻:​​用作正型抗蚀剂的蚀刻技术

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摘要

Although, poly(dimethylsiloxane) (PDMS) is a widely used material in numerous applications, such as micro- or nanofabrication, the method of its selective etching has not been known up to now. In this work authors present two methods of etching the pure, additive-free and cured PDMS as a positive resist material.
机译:尽管聚(二甲基硅氧烷)(PDMS)是在许多应用中广泛使用的材料,例如微型或纳米制造,但到目前为止,其选择性蚀刻的方法尚未为人所知。在这项工作中,作者提出了两种蚀刻纯正,无添加剂和固化PDMS作为正性抗蚀剂材料的方法。

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