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机译:反应氮气浓度对射频制备TiN薄膜性能的影响。磁控溅射
NIMS, Ibaraki 3050047, Japan;
rf. magnetron sputtering; TiN; microstructure; tribology; surface energy; COATINGS; PACVD;
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机译:溅射压力对甲烷-氩气混合气体中硅磁控溅射制备的非晶硅碳氢化合金薄膜性能的影响
机译:研究沉积温度和氮含量对通过直流磁控溅射制备的N掺杂SnO2膜的结构,光学和电性能的影响
机译:溅射压力对直流磁控溅射TAZO薄膜性能的影响
机译:磁控溅射薄膜涂层材料特性及摩擦学性能研究
机译:射频磁控溅射制备铁氧体石榴石(BiLuY)3(FeGa)5O12薄膜材料的性能
机译:通过DC磁控溅射制备的p型SnO2:Ga(GTO)薄膜的电气和光学性能的影响和研究温度的影响