ti-al co-doped zinc oxide films; transparent conducting films; sputtering pressure; magnetron sputtering;
机译:溅射压力对直流磁控溅射TAZO薄膜性能的影响
机译:溅射压力对直流反应磁控溅射制备NiO薄膜性能的影响
机译:直流磁控溅射在不同溅射压力下制备的纳米晶氧化锌薄膜的光电性能
机译:不同氧气部分压力下DC反应磁控溅射制备的钒氧化物膜的性质
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:溅射压力对射频磁控溅射制备的Zn_