机译:低k介电材料的动态SIMS分析研究
Evans Analyt Grp, Sunnyvale, CA 94086 USA;
low-k dielectric; charge compensation; electron beam effects; polymers; COPPER;
机译:纳米多孔PMSSQ材料的ToF-SIMS研究:用于ULSI应用的低K电介质加工的动力学和反应
机译:用作层间介质的低k材料的漏电流分析
机译:从头算分子动力学模拟看胺和甲基封端的有机硅低k电介质对氧等离子体的破坏机理
机译:使用机械强度高的低k介电材料进行简单,可靠的Cu /低k互连集成:碳氧化硅
机译:用于高级互连的多孔低k电介质的机械可靠性:多孔低k电介质的不稳定性机理及其通过惰性等离子体引发的骨架结构再聚合的介导研究。
机译:大规模分子动力学模拟研究纳米切削中的材料变形
机译:低k介质薄膜中Cu捕获和迁移的sIms研究