机译:脉冲激光沉积法生长Pb(Zr0.2Ti0.8)O-3铁电薄膜的厚度效应
Natl Inst Mat Phys, Bucharest, Romania;
Max Planck Inst Microstruct Phys, D-06120 Halle, Germany;
ferroelectric; pulsed laser deposition; thickness reduction; LAYERS;
机译:缓冲层对脉冲激光沉积生长Pb(Zr,Ti)O-3-Pb(Mn,W,Sb,Nb)O-3薄膜性能的影响
机译:Tb掺杂对47(Ba0.7CA0.3)TiO3-0.53Ba(Zr0.2Ti0.8)O-3在各种退火温度下的结构和电性能的影响通过脉冲激光沉积
机译:通过脉冲激光沉积法制备(Pb0.72La0.28)Ti0.93O3 / Pb(Zr0.52Ti0.48)O-3 /(Pb0.72La0.28)Ti0.93O3异质结构的耐氢铁电膜
机译:脉冲激光沉积生长Fe掺杂BaTiO3薄膜的铁电和磁性
机译:脉冲激光沉积在非线性光波导中生长的铁电氧化物薄膜的合成与性能
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:外延PB(Zr0.2Ti0.8)在脉冲激光沉积中产生的外延Pb(Zr0.2Ti0.8)的意外杂质及其对宏观电性能的影响