机译:衬底温度对射频磁控溅射沉积ZnO薄膜光学和压电性能的影响
Department of Electrical and Semiconductor Engineering, Chonnam National University, Yosu 550-749, South Korea;
ZnO thin film; rf sputtering; piezoelectric constant; refractive index;
机译:衬底温度对反应性射频磁控溅射沉积ZnO薄膜结构和光学性能的影响
机译:衬底温度和氧气/氩气流量比对射频磁控溅射制备的掺杂Ga的ZnO薄膜的电和光学性能的影响
机译:衬底溅射刻蚀对射频磁控溅射沉积ZnO薄膜的微观结构和光学性能的影响
机译:磁控溅射沉积温度对ZnO薄膜性能的结构转变
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:各种衬底温度对RF磁控溅射沉积的ZnO薄膜结构和电性能的依赖性