机译:二氧化铈浓度对光学玻璃化学机械抛光的影响
Laboratory of Nano Technology, Research Center of Functional Semiconductor Film Engineering & Technology, Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, CAS, Graduate School of the Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China;
CMP; ceria; concentration; physical model; quantum origin;
机译:二氧化硅化学机械抛光法处理废水中二氧化铈纳米粒子浓度的比较
机译:二氧化铈包覆的二氧化硅颗粒的合成,表征及其在玻璃基板上的化学机械抛光性能
机译:二氧化铈纳米粒子的表面改性及其在玻璃基板上的化学机械抛光行为
机译:表面活性剂浓度对二氧化铈浆料化学机械抛光液相识{Sub} 2的步进高度减小的影响
机译:二氧化铈浆料在电介质化学机械抛光中的化学作用表征。
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:纳米复印件对浅沟槽隔离化学机械抛光的表面活性剂加入对烟雾二氧化硅和二氧化硅浆料的依赖性