机译:反应中频双磁控溅射中Ti / TiN多层膜的研究
School of Engineering and Technology, China University of Geosciences, Beijing 100083, China;
surface defects; reactive mid-frequency dual-magnetron sputtering; adhesion; process parameters;
机译:中频双磁控溅射氧化铬膜的表面缺陷及参数优化研究
机译:中频双磁控溅射含Ag类金刚石碳膜的微观结构和力学性能
机译:中频双磁控溅射中类硬质碳膜的研究
机译:基于双磁控反应溅射介电膜的三层OVD涂层的研制
机译:用于高温应用的反应溅射硅碳氮化硼薄膜的研究。
机译:热氧化硅衬底上非常薄的共溅射Ti-Al和多层Ti / Al膜的相形成和高温稳定性
机译:在热氧化Si基材上非常薄的共溅射Ti-Al和多层Ti / Al膜的相形成和高温稳定性