...
机译:同步辐射硬X射线光发射光谱法分析Ito / mg:gan界面及其电学特性
Department of Applied Chemistry, The University of Tokyo,7-3-41 Hongo Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, Japan;
schottky barrier heights; can; hard x-ray photoemission spectroscopy; interfacial layer; ohmic contact;
机译:通过同步辐射X射线照相光谱法观察Al_2O_3 / NO_2 / H-金刚石界面的氮物质
机译:使用同步加速器辐射的时变光发射光谱法分析高k栅极电介质中的x射线辐射效应
机译:Ti / Al欧姆接触与n型GaN的同步辐射X射线光电子能谱:Al覆盖层在界面清除反应中的关键作用
机译:硬X射线光发射光谱法评估ITO / a-Si界面性能
机译:LaNiO3 / SrTiO 3超晶格及其界面的硬和软X射线驻波光电子能谱和角分辨光电子能谱研究。
机译:X射线光发射光谱法测量的非极性A面GaN / AlN和AlN / GaN异质结构的能带偏移
机译:同步辐射光发射光谱法测定氧化钌包覆阳极与有机材料界面的界面偶极能量