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Band offsets of non-polar A-plane GaN/AlN and AlN/GaN heterostructures measured by X-ray photoemission spectroscopy

机译:X射线光发射光谱法测量的非极性A面GaN / AlN和AlN / GaN异质结构的能带偏移

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摘要

The band offsets of non-polar A-plane GaN/AlN and AlN/GaN heterojunctions are measured by X-ray photoemission spectroscopy. A large forward-backward asymmetry is observed in the non-polar GaN/AlN and AlN/GaN heterojunctions. The valence-band offsets in the non-polar A-plane GaN/AlN and AlN/GaN heterojunctions are determined to be 1.33 ± 0.16 and 0.73 ± 0.16 eV, respectively. The large valence-band offset difference of 0.6 eV between the non-polar GaN/AlN and AlN/GaN heterojunctions is considered to be due to piezoelectric strain effect in the non-polar heterojunction overlayers.
机译:非极性A面GaN / AlN和AlN / GaN异质结的能带偏移通过X射线光发射光谱法测量。在非极性GaN / AlN和AlN / GaN异质结中观察到较大的前后不对称性。在非极性A面GaN / AlN和AlN / GaN异质结中的价带偏移分别确定为1.33±0.16 eV和0.73±0.16 eV。非极性GaN / AlN和AlN / GaN异质结之间的价带偏移为0.6eV,这被认为是由于非极性异质结叠层中的压电应变效应引起的。

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