机译:将分子建模方法与直流电和大功率脉冲磁控溅射相结合,以开发用于防污应用的新型TiO2薄膜
Ctr Rech Publ Gabriel Lippmann, Sci & Anal Mat Dept, L-4422 Belvaux, Luxembourg;
Ctr Rech Publ Gabriel Lippmann, Sci & Anal Mat Dept, L-4422 Belvaux, Luxembourg;
Ctr Rech Publ Gabriel Lippmann, Sci & Anal Mat Dept, L-4422 Belvaux, Luxembourg;
VTT Tech Res Ctr Finland, FI-02044 Espoo, Finland;
Dept Proc & Environm Engn, Mass & Heat Transfer Proc Lab, FI-90014 Oulu, Finland;
Dept Proc & Environm Engn, Mass & Heat Transfer Proc Lab, FI-90014 Oulu, Finland;
Ctr Rech Publ Gabriel Lippmann, Sci & Anal Mat Dept, L-4422 Belvaux, Luxembourg;
Ctr Rech Publ Gabriel Lippmann, Sci & Anal Mat Dept, L-4422 Belvaux, Luxembourg;
Molecular modelling; Fouling; CaCO3; TiO2; HiPIMS; Microstructure;
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射技术沉积的低电阻率Ru_(1-x)Ti_xO_2薄膜
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜
机译:直流磁控溅射与高功率脉冲磁控溅射工艺在不同惰性气体条件下生长CNX薄膜的比较研究
机译:通过反应直流磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射在SiO_2上生长的锡薄膜的比较
机译:用于薄膜晶体管应用的氧化锌的反应性大功率脉冲磁控溅射
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射反应溅射ZrH2薄膜