Fabrication of submicron Nb/AlO/sub x/-Al/Nb tunnel junctions using focused ion beam implanted Nb patterning (FINP) techniques

Akaike H.; Watanabe T.

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【24h】

Fabrication of submicron Nb/AlO/sub x/-Al/Nb tunnel junctions using focused ion beam implanted Nb patterning (FINP) techniques

机译：使用聚焦离子束注入Nb图案化（FINP）技术制造亚微米Nb / AlO / sub x / -Al / Nb隧道结

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来源
《IEEE Transactions on Applied Superconductivity》 |1995年第1995期|共页
作者
Akaike H.; Watanabe T.;
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收录信息美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类超导体、超导体材料;半导体技术;
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