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Emerging Lithographic Technologies
Emerging Lithographic Technologies
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Highly accurate alignment technology for electron-beam lithography in mix-and-match with optical ste
机译:
与光导混合搭配的电子束光刻高精度对准技术
作者:
Yoshinori Nakayama
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Yasuko Gotoh
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji Tokyo
;
Japan
;
Norio Saitou
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji-shi Tokyo
;
Japan
;
Hajime Hayakawa
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Ome-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Minoru Sasaki
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Japan.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
2.
High-volume production ste
机译:
您是大批量生产
作者:
Klaus Simon
;
Suss Advanced Lithography Corp.
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
R.Macklin
;
Suss Advanced Lithography Corp.
;
Waterbury Center
;
VT
;
USA
;
Robert A. Selzer
;
Suss Advanced Lithography Corp.
;
Waterbury Ctr
;
VT
;
USA
;
Quinn T. Leonard
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
3.
Influence of optical nonlinearities of the photoresist on the photolithographic process: a
机译:
光刻胶的光学非线性对光刻工艺的影响:
作者:
Andreas Erdmann
;
Fraunhofer-Institut for Silicon Technology
;
Itzehoe
;
Germany
;
Clifford L. Henderson
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
C. Grant Willson
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Wolfgang Henke
;
Fraunhofer-Institut for Silicon Technology
;
Berlin
;
Germany.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
4.
Method to improve setup and overlay performance on an excimer laser ste
机译:
改善准分子激光扫描仪的设置和覆盖性能的方法
作者:
Karen Petrillo
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
James Brancaccio
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Wu-Song Huang
;
IBM Microelectronics Div.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Ranee W. Kwong
;
IBM Microelectronics Div.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Ahmad D. Katnani
;
IBM Microelectronics Div.
;
Poughkeepsie
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
5.
Scanning array lens lithography for large-area a
机译:
大面积扫描阵列透镜光刻
作者:
Lawrence C. Wang
;
Ultratech Stepper
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
David A. Markle
;
Ultratech Stepper
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Raymond J. Ellis
;
Ultratech Stepper
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
6.
Single-stepper soft x-ray source for step-and-scan tools,
机译:
用于步进和扫描工具的单步软X射线源,
作者:
Melvin A. Piestrup
;
Adelphi Technology Inc.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
Michael W. Powell
;
Adelphi Technology Inc.
;
Foster City
;
CA
;
USA
;
Stanley J. Mrowka
;
Adelphi Technology Inc.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
Louis W. Lombardo
;
Adelphi Technology Inc.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
Michael B. Chase
;
Naval Postgraduate School
;
Monterey
;
CA
;
USA
;
J. Theodore Cremer
;
Adelphi Technology Inc.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
Xavier K. Maruyama
;
Naval Postgraduate School
;
Monterey
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
7.
X-ray mask replication using a Suss ste
机译:
使用Suss Ste进行X射线罩复制
作者:
Quinn T. Leonard
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
John P. Wallace
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Olga Vladimirsky
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Yuli Vladimirsky
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Klaus Simon
;
Suss Advanced Lithography Corp.
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
8.
Cost of mask fabrication
机译:
掩膜制造成本
作者:
Walt Trybula
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Daren Dance
;
WWK
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
9.
Fabrication of submicron topology with ion- and neutral-beam etching
机译:
通过离子束和中性束蚀刻制备亚微米拓扑
作者:
Iija P. Soshnikov
;
A.F. Ioffe Physical-Technical Institute
;
St. Petersburg
;
Russia
;
Alexander V. Lunev
;
A.F. Ioffe Physical-Technical Institute
;
St. Petersburg
;
Russia
;
M.E. Gaevski
;
A.F. Ioffe Physical-Technical Institute
;
St. Petersburg
;
Russia
;
Lolita G. Rotkina
;
A.F. Ioffe Physical-Technical Institute
;
St. Petersburg
;
Russia
;
Nicolai A. Bert
;
A.F. Ioffe Physical-Technical Institute
;
St. Petersburg
;
Russia.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
10.
Metrology and quantification of micromilled x-ray masks and exposures
机译:
微型X射线掩模和曝光量的计量和量化
作者:
Craig R. Friedrich
;
Michigan Technological Univ.
;
Houghton
;
MI
;
USA
;
Philip J. Coane
;
Louisiana Tech Univ.
;
Ruston
;
LA
;
USA
;
Jost Goettert
;
Louisiana Tech Univ.
;
Karlsruhe
;
Germany
;
Niranjan Gopinathin
;
Louisiana Tech Univ.
;
Ruston
;
LA
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
11.
Positive-tone conducting electron-beam resists
机译:
正型导电电子束抗蚀剂
作者:
Maggie A. Hupcey
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
Christopher K. Ober
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
12.
Power measurements of exposure radiation using thin metal film sensors
机译:
使用金属薄膜传感器测量曝光辐射的功率
作者:
Harish M. Manohara
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Kevin J. Morris
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
J. Michael Klopf
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Gina M. Calderon
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Jason Babin
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Olga Vladimirsky
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Yuli Vladimirsky
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
13.
CD variation in 30-kV EBL due to resist heating: experiment and simulation
机译:
30 kV EBL中由于抗蚀剂加热而引起的CD变化:实验和模拟
作者:
Sergey V. Babin
;
Set-Service (Russia)
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Peter Hudek
;
Institute of Computer Systems
;
Bratislava
;
Slovak Republic
;
Ivan Kostic
;
Institute of Computer Systems
;
Bratislava
;
Slovak Republic
;
I.Y. Kuzmin
;
Set-Service
;
Moscow
;
Russia.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
14.
One-dimensional calculation method for proximity effect correction in cell projection electron-beam direct writing
机译:
单元投影电子束直接写入中的邻近效应校正的一维计算方法
作者:
Yasuhisa Yamada
;
NEC Corp.
;
Kanagawa
;
Japan
;
Takao Tamura
;
NEC Corp.
;
Kanagawa
;
Japan
;
Ken Nakajima
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan
;
Hiroshi Nozue
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
15.
Characterization of an EUV Schwarzschild objective using phase-shifting point diffraction interferometry
机译:
使用相移点衍射干涉仪表征EUV Schwarzschild物镜
作者:
Kenneth A. Goldberg
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Univ. of Californ ia/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Edita Tejnil
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Univ. of Californ ia/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Sang H. Lee
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Univ. of Californ ia/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Hector Medecki
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
David T. Attwood
;
Jr.
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Univ. of Californ ia/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Keith H. Jackson
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Jeffrey Bokor
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Univ. of Californ ia/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
16.
Development of electron-beam lithography for power semiconductor devices
机译:
功率半导体器件的电子束光刻技术的发展
作者:
Vladimir A. Zlobin
;
All-Russian Electrotechnical Institute
;
Moscow
;
Russia
;
Olga G. Vasiljeva
;
All-Russian Electrotechnical Institute
;
Moscow
;
Russia.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
17.
Interferometric lithography exposure tool for 180-nm structures
机译:
适用于180 nm结构的干涉光刻曝光工具
作者:
Saleem H. Zaidi
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
Steven R. Brueck
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
Franklin M. Schellenberg
;
SEMATECH
;
KLA
;
Austin
;
TX
;
USA
;
R.S. Mackay
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
K.Uekert
;
Interserv Corp.
;
Bloomington
;
MN
;
USA
;
Jeffrey J. Persoff
;
Interserv Corp.
;
Chatsworth
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
18.
Single-stepper soft x-ray source for step-and-scan tools
机译:
单步软X射线源,用于步进和扫描工具
作者:
Author(s): Melvin A. Piestrup Adelphi Technology Inc. Palo Alto CA USA
;
Michael W. Powell Adelphi Technology Inc. Foster City CA USA
;
Stanley J. Mrowka Adelphi Technology Inc. Palo Alto CA USA
;
Louis W. Lombardo Adelphi Technology Inc. Palo Alto CA USA
;
Michael B. Chase Naval Postgraduate School Monterey CA USA
;
J. Theodore Cremer Adelphi Technology Inc. Palo Alto CA USA
;
Xavier K. Maruyama Naval Postgraduate School Monterey CA USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
19.
Fabrication of high-performance MSM photodetectors on SOI with nanometer-scale scattering buried backside reflectors
机译:
在具有纳米级散射掩埋式背面反射器的SOI上制造高性能MSM光电探测器
作者:
Erli Chen
;
Univ. of Minnesota/Twin Cities
;
Minneapolis
;
MN
;
USA
;
Stephen Y. Chou
;
Univ. of Minnesota/Twin Cities
;
Minneapolis
;
MN
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
20.
Fabrication process of superconducting integrated circuits with submicron Nb/AlOx/Nb junctions using electron-beam direct writing technique
机译:
电子束直接写入技术制备亚微米Nb / AlOx / Nb结超导集成电路
作者:
Masahiro Aoyagi
;
Electrotechnical Lab.
;
Tsukuba
;
Ibaraki
;
Japan
;
Hiroshi Nakagawa
;
Electrotechnical Lab.
;
Tsukuba
;
Ibaraki
;
Japan.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
21.
Simulation of resist heating in electron-beam lithography
机译:
电子束光刻中抗蚀剂加热的仿真
作者:
Sergey V. Babin
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
I.Y. Kuzmin
;
Set-Service
;
Moscow
;
Russia.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
22.
Conducting polyaniline coatings for submicron lithography and SEM metrology
机译:
导电聚苯胺涂料用于亚微米光刻和SEM计量
作者:
Teresita O. Graham
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Marie Angelopoulos
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Bruce Furman
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Rex K. Chen
;
IBM Microelectronics Div.
;
Hopewell Jct
;
NY
;
USA
;
Wayne M. Moreau
;
IBM Microelectronics Div.
;
Hopewell Jct
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
23.
Effect of SiC x-ray masks on alignment accuracy of heterodyne alignment
机译:
SiC x射线掩模对外差对准精度的影响
作者:
Hajime Aoyama
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Fumiaki Kumasaka
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Yoshihisa Iba
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Takao Taguchi
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Masayuki Takeda
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi
;
Japan
;
Masaki Yamabe
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Makoto Fukuda
;
NTT System Electronics Labs.
;
Atsugi-shi
;
Japan
;
Masanori Suzuki
;
NTT System Electronics Labs.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Kimiyoshi Deguchi
;
NTT System Electronics Labs.
;
Atsugi-shi
;
Japan.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
24.
Membrane distortions in x-ray masks due to specific absorber features
机译:
由于特定的吸收体特征,X射线掩模中的膜变形
作者:
Adam H. Fisher
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Roxann L. Engelstad
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Matthew F. Laudon
;
EPFL
;
Lausanne
;
Switzerland.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
25.
0.15-um pattern formation using cell projection electron-beam direct writing with variable shot size
机译:
使用可变投射尺寸的单元投射电子束直接写入形成0.15um图案
作者:
Takao Tamura
;
NEC Corp.
;
Kanagawa
;
Japan
;
Hiroshi Yamashita
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan
;
Ken Nakajima
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan
;
Hiroshi Nozue
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
26.
Active noise cancellation technique for highly accurate EB lithography systems
机译:
用于高精度EB光刻系统的主动噪声消除技术
作者:
Kouji Nagata
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji-shi Tokyo
;
Japan
;
Masahide Okumura
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji Tokyo
;
Japan
;
Norio Saitou
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji-shi Tokyo
;
Japan
;
Hiroyoshi Ando
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Toshiyuki Morimura
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Ken Iizumi
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Teruo Iwasaki
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji-shi
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
27.
SCALPEL proof-of-concept system: preliminary lithography results
机译:
SCALPEL概念验证系统:初步光刻结果
作者:
Author(s): Warren K. Waskiewicz Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Chris J. Biddick Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Myrtle I. Blakey Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Kevin J. Brady Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Ron M. Camarda Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Wayne F. Connelly Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
A.H. Crorken Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
J.P. Custy Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
R.DeMarco Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Reginald C. Farrow Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Joseph A. Felker Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Linus A. Fetter Lucent Technologies/Bell Labs. Holmdel NJ USA
;
Richard R. Freeman Lucent Technologies/Bell Labs. Holmdel NJ USA
;
Lloyd R. Harriott Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Leslie C. Hopkins Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Harold A. Huggins Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
R.J. Kasica Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Chester S. Knurek Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Joe S. Kraus Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
J.A. Liddle Lucent Technologies/Bell Labs. Scotch Plains NJ USA
;
Masis M. Mkrtchyan Lucent Technologies/Bell Labs. Stirling NJ USA
;
Anthony E. Novembre Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Milton L. Peabody Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
L.Rutberg Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Harry H. Wade Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
G.P. Watson Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
K.S. Werder Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
David L. Windt Lucent Technologies/Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Regine G. Tarascon-Auriol DuPont Photomasks Rousset Cedex France
;
Steven D. Berger Integrated Solutions Inc. Tewksbury MA USA
;
Stephen W. Bowler Integrated Solutions Inc. Tewksbury MA USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
28.
Evaluation of aerial image in XRL
机译:
XRL中航空影像的评估
作者:
Moonsuk Yi
;
Pohang Univ. of Science
;
Technology
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Ohyun Kim
;
Pohang Univ. of Science
;
Technology
;
Kyungbook
;
South Korea
;
Srinivas Bollepalli
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Mumit Khan
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
29.
Impact of the Coulomb interaction effect on delineating densely repeated 0.1-um patterns using electron-beam block exposure
机译:
库仑相互作用效应对使用电子束块曝光描绘密集重复的0.1um模式的影响
作者:
Kimitoshi Takahashi
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi
;
Japan
;
Satoru Yamazaki
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Manabu Ohno
;
Fujitsu VLSI Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Hitoshi Watanabe
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Takayuki Sakakibara
;
Fujitsu VLSI Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Masami Satoh
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi
;
Japan
;
Takeo Nagata
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi
;
Japan
;
Akio Yamada
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Hiroshi Yasuda
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Yasuo Nara
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi
;
Japan
;
Nobuo Sasaki
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi
;
Japan.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
30.
Microlens direct-write concept for lithography
机译:
用于光刻的微透镜直接写入概念
作者:
Mark P. Davidson
;
Spectel Co.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
31.
Process development for 180-nm structures using interferometric lithography and I-line photoresist
机译:
使用干涉光刻和I线光刻胶进行180 nm结构的工艺开发
作者:
Xiaolan Chen
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
Zhao Zhang
;
Univ. of New Mexico
;
Univ of New Mexico
;
NM
;
USA
;
Steven R. Brueck
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
Ronald A. Carpio
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
John S. Petersen
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
32.
Sloped irradiation techniques in deep x-ray lithography for 3D shaping of microstructures
机译:
深X射线光刻中的倾斜辐照技术,用于微结构的3D成形
作者:
Gregor Feiertag
;
Institute of Microtechnology Mainz GmbH
;
Muenchen
;
Germany
;
Wolfgang Ehrfeld
;
Institute of Microtechnology Mainz GmbH
;
Mainz
;
Germany
;
Heinz Lehr
;
Institute of Microtechnology Mainz GmbH
;
Mainz-Hechtsheim
;
Germany
;
Martin Schmidt
;
Institute of Microtechnology Mainz GmbH
;
Mainz
;
Germany.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
33.
SNR200 chemically amplified resist optimization
机译:
SNR200化学放大抗蚀剂优化
作者:
Janet M. Rocque
;
IBM Microelectronics Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Denise M. Puisto
;
IBM Microelectronics Div.
;
Essex Jct
;
VT
;
USA
;
Douglas J. Resnick
;
Motorola
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Kevin D. Cummings
;
Motorola
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
William Chu
;
Motorola
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Philip A. Seese
;
Motorola
;
Tempe
;
AZ
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
34.
X-ray phase mask: nanostructures
机译:
X射线相位掩膜:纳米结构
作者:
Zheng Guo Chen
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Quinn T. Leonard
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Mumit Khan
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
35.
Stability and stiffness characteristics of the national x-ray mask standard
机译:
国家X射线口罩标准的稳定性和刚度特性
作者:
Adam H. Fisher
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Michael A. Sprague
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Roxann L. Engelstad
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Daniel L. Laird
;
Sandia National Labs.
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Steven C. Nash
;
IBM Microelectronics Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
36.
Evaluation of the Defense Advanced Lithography Program (DALP) x-ray lithography aligner
机译:
国防高级光刻计划(DALP)X射线光刻对准仪的评估
作者:
Author(s): Alek C. Chen Lockheed Martin Federal Systems Mt Kisco NY USA
;
Alex L. Flamholz Lockheed Martin Federal Systems Hopewell Junction NY USA
;
Azalia A. Krasnoperova Lockheed Martin Federal Systems Hopewell Junction NY USA
;
Robert P. Rippstein Lockheed Martin Federal Systems Hopewell Junction NY USA
;
Ben R. Vampatella Lockheed Martin Federal Systems Essex Junction VT USA
;
George A. Gomba IBM Microelectronics Div. Hopewell Junction NY USA
;
R.H. Fair IBM Microelectronics Div. Hopewell Junction NY USA
;
William Chu Motorola Austin TX USA
;
V.Dimilia IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Ridgefield CT USA
;
J.P. Silverman IBM Semiconductor Research and Development Ctr. Yorktown Heights NY USA
;
R.J. Amodeo Silicon Valley Group Lithography Systems Inc. Ridgefield CT USA
;
D.A. Heald Silicon Valley Group Lithography Systems Inc. Ridgefield CT USA
;
P.C. Kochersperger Silicon Valley Group Lithography Systems Inc. Ridgefield CT USA
;
C.Stahlhammer Silicon Valley Group Lithography Systems Inc. Ridgefield CT USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
37.
Measurement of midspatial frequency scatter in extreme ultraviolet lithography systems using direct aerial image measurements
机译:
使用直接航拍图像测量来测量极端紫外光刻系统中的中空频率散射
作者:
Charles H. Fields
;
Univ. of California/Berkeley
;
Malibu
;
CA
;
USA
;
Avijit K. Ray-Chaudhuri
;
Sandia National Labs.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Kevin D. Krenz
;
Sandia National Labs.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
William G. Oldham
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Richard H. Stulen
;
Sandia National Labs.
;
Livermore
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
38.
Scattered-light alignment system using SiC mask for x-ray lithography
机译:
使用SiC掩模进行X射线光刻的散射光对准系统
作者:
Tsutomu Miyatake
;
Sumitomo Heavy Industries
;
Ltd.
;
Tana-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Masaoki Hirose
;
Sumitomo Heavy Industries
;
Ltd.
;
Tanashi-shi Tokyo
;
Japan
;
Tsutomu Shoki
;
HOYA Corp.
;
Akishima-shi Tokyo
;
Japan
;
Ryo Ohkubo
;
HOYA Corp.
;
Tokyo
;
Japan
;
Kuniaki Yamazaki
;
Nippon Motorola
;
Ltd.
;
Miyagi
;
Japan.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
39.
Simulation of x-ray mask defect printability
机译:
X射线掩模缺陷可印刷性的仿真
作者:
Srinivas Bollepalli
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Scott D. Hector
;
Motorola
;
Fishkill
;
NY
;
USA
;
Juan R. Maldonado
;
IBM Semiconductor Research
;
Development Ctr.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Jeffrey A. Leavey
;
IBM Semiconductor Research
;
Development Ctr.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Mumit Khan
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
40.
Wavefront engineering from 500- to 100-nm CD
机译:
从500纳米到100纳米CD的波前工程
作者:
Marc D. Levenson
;
Rice Univ.
;
Campbell
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
41.
Three-dimensional electron-beam lithography simulation
机译:
三维电子束光刻模拟
作者:
Chris A. Mack
;
FINLE Technologies
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
42.
Achieving subhalf-micron I-line manufacturability through automated OPC
机译:
通过自动OPC实现半微米I线可制造性
作者:
Mario Garza
;
LSI Logic
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Eric Jackson
;
CHI
;
Princeton
;
NJ
;
USA
;
Wayne P. Shen
;
Hewlett-Packard Co.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Nicholas K. Eib
;
LSI Logic
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Saeed Sabouri
;
Hewlett-Packard Co.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Uwe Hollerbach
;
Boston Univ.
;
Boston
;
MA
;
USA
;
Theron L. Felmlee
;
Hewlett-Packard Co.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Vijaya N. Raghavan
;
Hewlett-Packard Co.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
K.C. Wang
;
Hewlett-Packard Co.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Eytan Barouch
;
Boston Univ.
;
Boston
;
MA
;
USA
;
Steven A. Orszag
;
Boston Univ.
;
Princeton Univ.
;
Boston
;
MA
;
USA
;
Keith K. Chao
;
LSI Logic
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
John Jensen
;
LSI Logic
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
43.
Optical lithography--thirty years and three orders of magnitude: the evolution of optical lithography tools
机译:
光学光刻-三十年和三个数量级:光学光刻工具的发展
作者:
John H. Bruning
;
Tropel Corp.
;
Fairport
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
44.
Photoresist materials: a historical perspective
机译:
光刻胶材料:历史观点
作者:
C. Grant Willson
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Ralph R. Dammel
;
Hoechst Celanese Corp.
;
Somerville
;
NJ
;
USA
;
Arnost Reiser
;
Polytechnic Univ.
;
Brooklyn
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies》
|
1997年
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