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机译:微波等离子体CVD生长的石墨烯-CNT杂化物,用于增强电子场发射应用
Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, Hauz Khas, New Delhi 110016, India;
Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, Hauz Khas, New Delhi 110016, India;
Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, Hauz Khas, New Delhi 110016, India;
机译:通过两步微波增强化学气相沉积工艺合成杂化金刚石薄膜,以增强电子场发射性能
机译:通过两步微波等离子体增强化学气相沉积工艺修饰超纳米晶金刚石膜的微结构,以增强其电子场发射性能
机译:通过两步微波等离子体增强化学气相沉积工艺修饰超纳米晶金刚石膜的微结构,以增强其电子场发射性能
机译:通过等离子体后处理工艺增强金刚石/ CNTs材料的电子场发射行为,用于三极管型真空场发射晶体管
机译:通过改进的微波等离子体辅助化学气相沉积金刚石工艺制造的薄膜冷阴极材料的生长,表征和电子场发射测量。
机译:微波等离子体增强CVD工艺制备的短圆锥形碳纳米管的优异场发射性能
机译:场发射现象和应用。 CVD-生长金刚石的电子发射。