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Enhanced tunable and pyroelectric properties of Ba(Ti0.85Sn0.15)O3 thin films with Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7 buffer layers

机译:具有Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7缓冲层的Ba(Ti0.85Sn0.15)O3薄膜的可调谐和热释电性能增强

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摘要

Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7 (BZN) buffered Ba(Ti0.85Sn0.15)O3 (BTS) heterostructures have been deposited on LaNiO3/SiO2/Si substrates by pulsed laser deposition. The film and interface microstructures, dielectric and pyroelectric properties of BTS thin films are controlled by the thickness of the BZN buffer layer. The BZN layer suppresses interdiffusion between BTS and the bottom electrode, resulting in a reduction in dielectric loss and leakage current. At 303 K, the dielectric loss, tunability and figure of merit of BZN buffered-BTS films are 0.009, 47.9%, and 68.4, respectively. Furthermore, a promising pyroelectric coefficient and figure of merit, 24.7×10-4 C/m2 K and 16.3×10-5 Pa-1/2 are also attained at 293 K.
机译:Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7(BZN)缓冲的Ba(Ti0.85Sn0.15)O3(BTS)异质结构已通过脉冲激光沉积法沉积在LaNiO3 / SiO2 / Si衬底上。 BTS薄膜的薄膜和界面微结构,介电和热电性能由BZN缓冲层的厚度控制。 BZN层抑制了BTS与底部电极之间的相互扩散,从而降低了介电损耗和泄漏电流。在303 K处,BZN缓冲BTS膜的介电损耗,可调性和品质因数分别为0.009、47.9%和68.4。此外,在293 K时,热电系数和品质因数也有望达到24.7×10-4 C / m2 K和16.3×10-5 Pa-1 / 2。

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  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2010年第8期|共页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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