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Coherent heteroepitaxy of Bi2Se3 on GaAs „111…B

机译:Bi2Se3在GaAs„ 111…B上的相干异质外延

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摘要

We report the heteroepitaxy of single crystal thin films of Bi2Se3 on the u0002111u0003B surface of GaAs bynmolecular beam epitaxy. We find that Bi2Se3 grows highly c-axis oriented, with an atomically sharpninterface with the GaAs substrate. By optimizing the growth of a very thin GaAs buffer layer beforengrowing the Bi2Se3, we demonstrate the growth of thin films with atomically flat terraces overnhundreds of nanometers. Initial time-resolved Kerr rotation measurements herald opportunities fornprobing coherent spin dynamics at the interface between a candidate topological insulator and anlarge class of GaAs-based heterostructures. © 2010 American Institute of Physics.nu0004doi:10.1063/1.3532845
机译:我们通过分子束外延报告了Bi2Se3在GaAs的u0002111u0003B表面上的单晶薄膜的异质外延。我们发现,Bi2Se3高度沿c轴取向生长,与GaAs衬底之间原子原子锐化。通过在生长Bi2Se3之前优化非常薄的GaAs缓冲层的生长,我们证明了具有原子平坦平台的纳米薄膜的生长超过了数百纳米。最初的时间分辨Kerr旋转测量预示着在候选拓扑绝缘体和大量基于GaAs的异质结构之间的界面上探索相干自旋动力学的机会。 ©2010美国物理研究所.nu0004doi:10.1063 / 1.3532845

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2010年第26期|p.1-3|共3页
  • 作者单位

    Department of Physics, The Pennsylvania State University, University Park, Pennsylvania 16802, USA2Department of Physics, University of California, Santa Barbara, California 93106, USAu0002 u0003;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 13:59:29

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