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机译:外延石墨烯在3C–SiC„ 111…上的结构相干性
Laboratoire de Photonique et de Nanostructures (LPN), CNRS, Route de Nozay, 91460 Marcoussis, France2Synchrotron-SOLEIL, Saint-Aubin, BP 48, F 91192 Gif sur Yvette Cedex, France3Institut des NanoSciences de Paris, UPMC Paris 06, CNRS UMR 7588, 4 Pl. Jussieu, 75005 Paris,France4CNRS-CRHEA, Rue Bernard Gregory, 06560 Valbonne, France;
机译:Si(111)上3C-SiC(111)外延层上外延石墨烯的结构相干性
机译:使用3C-SiC(111)/ Si的表面终止作用控制硅上外延石墨烯的结构和电子性质
机译:3C-SiC(111)伪衬底上的外延石墨烯:结构和电子性能
机译:Si(110)衬底上的3C-SiC(111)的高速旋转外延在硅上合格的外延石墨烯
机译:电子应用硅上外延3C-SiC薄膜的生长和表征。
机译:3C–SiC(100)/ Si(100)衬底上外延石墨烯的结构和电子性能研究
机译:3C-SiC / Si(111)的准防独立外延石墨烯制造