机译:控制非晶薄膜生长中的表面粗糙度
Technische Universitat Berlin, Institut fur Theoretische Physik, Hardenbergstrasse 36, D-10623 Berlin, Germany;
机译:薄膜生长过程中表面粗糙度的低阶ODE逼近和后视控制
机译:表面粗糙度对具有高κSm_2O_3电介质的非晶InGaZnO薄膜晶体管电学特性的影响
机译:低表面粗糙度GaAs / Si薄膜沉积在MBE中使用三步生长方法
机译:使用近似低阶ODE模型的薄膜生长过程中表面粗糙度的反馈控制
机译:薄膜生长中薄膜孔隙率,表面粗糙度和厚度的随机建模和控制。
机译:控制高粗糙度表面上的刀尖磨损会导致悬臂式刀尖逐渐变宽和变圆
机译:在低生长速率下沉积的氢化非晶硅的表面粗糙度发展