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一种基于异质叠层非晶薄膜供给的平面锗硅及相关纳米线生长形貌和组分调控的方法

摘要

一种利用叠层非晶前驱体层制备异质或合金半导体纳米线的方法,以硅锗体系为例,通过非晶硅(a‑Si)/非晶锗(a‑Ge)叠层薄膜作为前驱体,制备出自发相分离的硅锗岛链纳米线结构,采用叠层非晶薄膜作为前驱体层,通过金属液滴的吸收和平面纳米线生长过程,实现自发相分离的平面硅锗纳米线,其形貌可通过叠层的厚度以及叠加次序加以控制,调控为硅锗岛链结构;其中,当非晶锗层处于底部即a‑Si/a‑Ge结构时,硅锗纳米线中较宽的岛区为锗高浓度区域,而较细的纳米线连接为硅高浓度区域;或通过相反的叠加次序实现直径较为均匀的硅锗合金纳米线结构,或者其中包涵微区间隔的“硅‑锗”交替区域结构。

著录项

  • 公开/公告号CN107640741B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京大学;

    申请/专利号CN201710653561.5

  • 发明设计人 余林蔚;赵耀龙;王军转;

    申请日2017-08-02

  • 分类号B82B3/00(20060101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构32249 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人陈建和

  • 地址 210093 江苏省南京市鼓楼区汉口路22号

  • 入库时间 2022-08-23 10:43:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-15

    授权

    授权

  • 2018-02-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):B82B3/00 申请日:20170802

    实质审查的生效

  • 2018-02-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):B82B 3/00 申请日:20170802

    实质审查的生效

  • 2018-01-30

    公开

    公开

  • 2018-01-30

    公开

    公开

  • 2018-01-30

    公开

    公开

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