机译:GaN / InGaN双异质结双极晶体管的高功率特性
NTT Basic Research Laboratories, NTT Corporation, 3-1 Morinosato Wakamiya, Atsugi-shi, Kanagawa 243-0198, Japan;
机译:GaN / InGaN双异质结双极晶体管电流增益的低温特性
机译:MOVPE生长的n-和p-InGaN中的少数载流子扩散长度以及AlGaN / InGaN / GaN双异质结双极晶体管的性能
机译:致力于大功率GaN / InGaN异质结双极晶体管
机译:GaN / IngaN双异质结双极晶体管的高功率特性,具有重生的P-Ingan基础层
机译:基于N沟道InGaAsP-InP的倒置通道技术器件(ICT)的设计,制造和表征,用于光电集成电路(OEIC):双异质结光电开关(DOES),异质结场效应晶体管(HFET),双极倒置沟道场-效应晶体管(BICFET)和双极型反向沟道光电晶体管(BICPT)。
机译:从硅衬底上分离出来的独立式GaN上的InGaN / GaN蓝色发光二极管的正向隧穿特性研究
机译:异结双极晶体管:具有高电流扩增的2D基于材料的垂直双相杂交双极晶体管(ADV。电子。Matter。3/2019)
机译:用于大功率开关应用的siC双极晶体管和GaN异质结双极晶体管的探索性开发。