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One-dimensional Schottky contact between ErSi_2 nanowire and Si(001)

机译:ErSi_2纳米线与Si(001)之间的一维肖特基接触

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摘要

We have measured the electric properties of nanosized Schottky contacts formed between ErSi_2 nanowires (NWs) and a Si(001) substrate. Current vs voltage (Ⅰ-Ⅴ) measurement was performed by touching a scanning tunneling microscope tip to the NWs. The current density (J) through the ErSi_2/Si(001) interface increased as the width of the NWs decreased, while no significant changes were observed upon changing the length of the NWs. The ideality factor was estimated by fitting the standard Schottky equation to the obtained J-Ⅴ curves. Our results suggest that the tunneling component increases as the width of the NWs becomes smaller.
机译:我们已经测量了在ErSi_2纳米线(NWs)和Si(001)衬底之间形成的纳米级肖特基接触的电性能。通过将扫描隧道显微镜的尖端触摸到西北面来进行电流与电压(Ⅰ-Ⅴ)的测量。随着NW的宽度减小,通过ErSi_2 / Si(001)界面的电流密度(J)增加,而在改变NW的长度时未观察到显着变化。通过将标准肖特基方程拟合到获得的J-Ⅴ曲线,可以估算理想因子。我们的结果表明,随着NW宽度的减小,隧穿分量增加。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2006年第23期|p.233117.1-233117.3|共3页
  • 作者单位

    Nanomaterials Laboratory, National Institute for Materials Science (NIMS),1-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;计量学;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:22:01

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