...
首页> 外文期刊>Applied Physics Letters >Realization of highly reproducible ZnO nanowire field effect transistors with n-channel depletion and enhancement modes
【24h】

Realization of highly reproducible ZnO nanowire field effect transistors with n-channel depletion and enhancement modes

机译:具有n沟道耗尽和增强模式的高度可复制的ZnO纳米线场效应晶体管的实现

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

The authors demonstrate the highly reproducible fabrication of n-channel depletion-mode (D-mode) and enhancement-mode (E-mode) field effect transistors (FETs) created from ZnO nanowires (NWs). ZnO NWs were grown by the vapor transport method on two different types of substrates. It was determined that the FETs created from ZnO NWs grown on an Au-coated sapphire substrate exhibited an n-channel D mode, whereas the FETs of ZnO NWs grown on an Au-catalyst-free ZnO film exhibited an n-channel E mode. This controlled fabrication of the two operation modes of ZnO NW-FETs is important for the wide application of NW-FETs in logic circuits.
机译:作者展示了由ZnO纳米线(NWs)制成的n沟道耗尽模式(D-mode)和增强模式(E-mode)场效应晶体管(FET)的高度可重复制造。 ZnO NW通过气相传输法在两种不同类型的基底上生长。已确定由在Au涂层蓝宝石衬底上生长的ZnO NW创建的FET呈现n沟道D模式,而在无Au催化剂的ZnO薄膜上生长的ZnO NW FET则显示n沟道E模式。 ZnO NW-FET两种工作模式的受控制造对于NW-FET在逻辑电路中的广泛应用非常重要。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号