...
首页> 外文期刊>Applied Physics Letters >Chemical sputtering of carbon films by argon ions and molecular oxygen at cryogenic temperatures
【24h】

Chemical sputtering of carbon films by argon ions and molecular oxygen at cryogenic temperatures

机译:在低温下通过氩离子和分子氧化学溅射碳膜

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

The experiments demonstrate the existence of a synergistic interaction of molecular oxygen and energetic ions with amorphous carbon leading to enhanced erosion; although the samples, amorphous hydrogenated carbon films, are not gasified by O_2 at room temperature, additional ion bombardment at the same temperature leads to erosion rates that drastically exceed those of physical sputtering. Investigation of the temperature dependence from 400 down to 113 K shows that the erosion rate increases with decreasing temperature.
机译:实验表明,分子氧和高能离子与无定形碳存在协同作用,导致侵蚀加剧。尽管样品(无定形氢化碳膜)在室温下不会被O_2气化,但在相同温度下进行额外的离子轰击会导致腐蚀速率大大超过物理溅射的速率。从400到113 K的温度依赖性研究表明,腐蚀速率随温度降低而增加。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2007年第22期|p.224106.1-224106.3|共3页
  • 作者

    C. Hopf; M. Schlueter; W. Jacob;

  • 作者单位

    Max-Planck-Institut fuer Plasmaphysik, EURATOM Association, Boltzmannstr. 2, 85748 Garching, Germany;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;计量学;
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号