机译:具有浮动P顶层的n型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的异常输出特性偏移
National ASIC System Engineering Research Center, Southeast University, Nanjing 210096, People's Republic of China;
National ASIC System Engineering Research Center, Southeast University, Nanjing 210096, People's Republic of China;
National ASIC System Engineering Research Center, Southeast University, Nanjing 210096, People's Republic of China;
CSMC Technologies Corporation, Wuxi 214061, People's Republic of China;
CSMC Technologies Corporation, Wuxi 214061, People's Republic of China;
CSMC Technologies Corporation, Wuxi 214061, People's Republic of China;
CSMC Technologies Corporation, Wuxi 214061, People's Republic of China;
机译:使用局部接触蚀刻停止层的完全拉伸应变的部分绝缘体上硅n型横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:具有n型阶梯掺杂缓冲层的新型超结横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:具有n型阶梯掺杂缓冲层的新型超结横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:具有浮置p顶层的n型横向DMOS的热载流子降解研究
机译:功率垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管中的总电离剂量效应。
机译:具有增强的双栅极和部分P埋层的超低比导通电阻横向双扩散金属氧化物半导体晶体管
机译:完全拉伸的应变部分硅绝缘体n型 采用局域化的横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管 接触蚀刻停止层