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机译:通过LaTaON钝化层和氟的引入钝化GaAs金属氧化物半导体电容器中的氧化物陷阱和界面态
Department of Electrical and Electronic Engineering, The University of Hong Kong, Pokfulam Road, Hong Kong;
Department of Electrical and Electronic Engineering, The University of Hong Kong, Pokfulam Road, Hong Kong;
School of Optical and Electronic Information, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, People's Republic of China;
Department of Electrical and Electronic Engineering, The University of Hong Kong, Pokfulam Road, Hong Kong;
机译:氮化物钝化使用大气金属有机化学气相沉积减少了原子层沉积的Al_2O_3 / GaAs(001)金属氧化物半导体电容器中的界面陷阱
机译:具有LaTaON钝化层的Ge基金属氧化物半导体电容器的界面和电学性质的改善
机译:具有高k栅氧化层和非晶硅界面钝化层的GaAs上的金属氧化物半导体电容器
机译:具有薄锗钝化层的n-InGaAs衬底上的基于HfO_2的金属氧化物半导体电容器
机译:金属氧化物半导体器件中硅/二氧化硅界面粗糙度和界面捕获电荷的低温测量。
机译:用于金属氧化物半导体电容器和场效应晶体管的氢化金刚石上高k氧化物概述
机译:LaTaON钝化层和氟掺杂对Gaas金属氧化物半导体电容器中氧化物陷阱和界面态的钝化