机译:射频磁控溅射沉积近紫外透明导电ITO / Ga_2O_3多层膜的电学和光学性质
Department of Printed Electronics Engineering, Sunchon National University, Sunchon, Jeonnam 57922, South Korea;
Department of Printed Electronics Engineering, Sunchon National University, Sunchon, Jeonnam 57922, South Korea;
机译:磁控溅射深紫外透明导电Ga_2O_3 / ITO薄膜的电学和光学性质
机译:通过磁控溅射沉积的透明导电NTTO / Cu / NTTO多层膜的光学和电性能
机译:磁控溅射沉积导电透明ITO / Ni / ITO多层膜的研究
机译:透明导电CD_3TEO_6薄膜的电气和光学性能沉积RF磁控溅射
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:射频磁控溅射沉积ZnS薄膜的结构和光学性质
机译:ITO层对RF磁控溅射沉积的GZO / ITO双层TCO薄膜电气和光学性能的影响,以应用于太阳能电池