机译:使用薄量子阱和AIN缓冲器实现了0.15 nm的输出功率的227 nm AIGaN发光二极管,具有降低的螺纹位错密度
机译:利用AIGaN多量子阱提高280nm深紫外发光二极管的输出功率
机译:在AIN缓冲层生长之前具有NH_3源预流的基于氮化物的发光二极管的低位错密度
机译:实现340-NM波段高输出功率(> 7MW)inalGan量子孔紫外线发光二极管,P型InalGaN
机译:通过采用三甲基铝脉冲供应生长改善AIN / AIGAN模板的表面粗糙度和螺纹脱位密度的降低
机译:降低异质外延薄膜中的螺纹位错密度的策略。
机译:使用非对称In0.15Ga0.85N / In0.02Ga0.98N多量子阱提高InGaN激光二极管的输出功率
机译:227-261NM基于Algan的深度紫外发光二极管,在蓝宝石的高质量Aln缓冲区上制造