wet etching; sapphire; mask layer;
机译:通过氢离子注入形成纳米尺度的腔体,在单晶蓝宝石纤维中进行光学模式限制和选择
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机译:用于微光学传感器的深湿蚀刻硅腔:掩膜对$ {111} $侧壁表面质量的影响
机译:用于MEMS掩膜选择的深氧化蚀刻工艺的研究进展。
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:通过无掩模化学刻蚀制备的涂有银纳米颗粒的蓝宝石图案衬底上的GaN基发光二极管的性能
机译:用于发光二极管的图案蓝宝石基板上的选择性掩模形成和氮化镓模板制造
机译:海洋腐蚀研究。应力腐蚀开裂,深海技术,阴极保护,腐蚀疲劳