Atomic layer deposition Al2O3 A-Si:H(i)/Al2O3 stack Interface trap density;
机译:原子层沉积Al2O3薄膜和Al2O3 / SiO2堆叠中的氢诱导界面钝化
机译:具有原子层沉积的Al2O3 / Pt纳米晶体/ Al2O3栅堆叠的电可编程可擦除In-Ga-Zn-O薄膜晶体管存储器
机译:原子层沉积的Al2O3薄膜对纳米结构化硅太阳能电池的表面钝化
机译:利用低成本前体通过空间原子层沉积法生长的Al2O3薄膜使硅表面钝化
机译:用于电介质,半导体钝化和固体氧化物燃料电池的原子层沉积薄膜。
机译:使用Al2O3势垒层控制原子层沉积的Al2O3 / La2O3 / Al2O3栅堆叠中的硅扩散控制
机译:a-Si:H(i)/ AlO表面钝化堆栈中原子层沉积的AlO膜的氧化前体依赖性
机译:用于射频mEms电容开关的替代介电薄膜,使用原子层沉积的al2O3 / ZnO合金沉积