Aluminum oxides ; Atomic layer epitaxy ; Zinc alloys ; Zinc oxides ; Microelectromechanical systems ; Dielectric films ; Aluminum alloys ; Auger electron spectroscopy ; Dielectric properties ; Microscopy ; Insertion loss ; Trapping(Charged particles) ; Radiofrequency ; Mechanical properties ; Reprints;
机译:使用原子层沉积的Al2O3 / ZnO合金沉积的RF MEMS电容开关的替代介电膜
机译:具有高质量ZnO / Al2O3接口的原子层沉积薄膜晶体管的增强性能
机译:原子层沉积Al2O3钝化的ZnO纳米晶体薄膜的光电性能
机译:用于射频微机电系统的低温生长原子层沉积的Al_2O_3 / ZnO介电膜的性能
机译:用于高k电介质和存储器应用的原子层沉积Al2O3和TiO2
机译:a-Si:H(i)/ Al2O3表面钝化堆栈中原子层沉积的Al2O3膜的氧化前体依赖性
机译:原子层沉积法制备栅介质ZrO2 / al2O3双层薄膜的特性