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Fabrication and Characteristics of Heavily Fe-Doped LiNbO3/Si Heterojunction

机译:重掺杂Fe的LiNbO3 / Si异质结的制备及特性

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摘要

A series of heavily Fe-doped LiNbO3 (LN:Fe) crystals were grown via the Czochralski method. The dark- and photo-conductivity of the 5.0 wt.% Fe-doped LiNbO3 crystal reached 3.30 × 10−8 Ω−1 cm−1 and 1.46 × 10−7 Ω−1 cm−1 at 473 nm, which are about 7 and 5 orders of magnitude higher than that of congruent LiNbO3, respectively. Then, a p-n heterojunction was fabricated by depositing the heavily Fe-doped LiNbO3 on a p-type Si substrate using the pulsed laser deposition. The current–voltage curve of the LN:Fe/Si heterojunction presents a well-defined behavior with a turn-on voltage of 2.9 V. This LN:Fe/Si heterojunction gives an excellent prototype device for integrated optics and electro-photonics.
机译:通过切克劳斯基方法生长了一系列重铁掺杂的LiNbO3(LN:Fe)晶体。 5.0 wt。%Fe掺杂的LiNbO3晶体的暗电导率达到3.30×10 −8 Ω -1 cm -1 和1.473×10 −7 Ω −1 cm −1 在473 nm处,分别比其高7个和5个数量级。分别为全同的LiNbO3。然后,通过使用脉冲激光沉积在p型Si衬底上沉积重掺杂Fe的LiNbO3来制造p-n异质结。 LN:Fe / Si异质结的电流-电压曲线表现出良好的行为,其开启电压为2.9V。该LN:Fe / Si异质结为集成光学和电子光子学提供了出色的原型设备。

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