机译:使用热扫描探针光刻硅中的10纳米特征尺寸
机译:基于绝缘体上硅纳米线通过扫描探针光刻和湿法蚀刻制造的单电子晶体管结构
机译:通过基板保形压印光刻技术获得的抗反射多孔硅特征,用于硅光伏应用
机译:使用纳米压印光刻技术在非平坦基板上制备纳米尺寸特征
机译:在线光刻技术合成的等离子纳米结构:更小尺寸以及新材料和应用。
机译:纳米图案热反应的响应型荧光超分子聚合物的制备扫描探针光刻
机译:通过嵌段共聚物光刻技术批量生产均匀尺寸的纳米多孔硅纳米线阳极
机译:LIGa X射线光刻的基本限制:侧壁偏移,斜率和最小特征尺寸。