新型氧敏CeO_(2-x)薄膜的制备及结构研究

摘要

用射频磁控溅射法制备了CeO2-x高温氧敏薄膜。通过改变O2／Ar比，制备出不同组分和结构的CeO2-x薄膜。用Ce3d的XPS谱计算了Ce3+的浓度。XRD和AFM分析表明，薄膜经空气中高温退火后，形成了立方体CaF2型小晶粒，晶粒大小明显依赖于退火条件和膜厚。