Hac/H2O2降解制高性能水溶性壳聚糖的工艺研究

摘要

研究了壳聚糖Hac介质中用H2O2进行氧化降解的情况,讨论了主要影响因素温度对降解反应速率和产品质量的影响,选定最佳温度75℃;依据壳聚糖浓度、反应时间、乙酸浓度、氧化剂与壳聚糖比例设计正交实验,详细分析了各个指标下所得数据,综合得出水溶性低聚糖制备的优化条件:n(氧化剂):n(壳聚糖单元)=2、t=4 h、C(壳聚糖)=3%、C(Hac)=3.5%.