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俞诚;
无;
PECVD法; 掺氟; 低氢; 氮化硅 ; 薄膜 ;
机译:PECVD法制备低漏电流掺氟碳氧化硅
机译:直流PECVD合成的掺硅的类金刚石碳膜的低宏观场发射
机译:天冬氨酸蛋白酶抑制剂内酯中间体[(2S)-(3-氟苯基)-(1S)-(5-氧代四氢呋喃-2-基)乙基]氨基甲酸叔丁酯的工艺研究
机译:水与掺氟氧化硅膜之间的相互作用通过PECVD沉积
机译:化学反应速率经典变分理论在氟+分子氢变为氟化氢+氢以及氟+氢-氘变为氟化氘(氟化氢)+氢(氘)反应中的应用
机译:PECVD对低温生长的掺硼氢化晶体硅的退火
机译:掺锂MgO低折射率表面的竞争缺陷机理和氢吸附:DFT + U研究
机译:评估氢/氟/锂,氢/氟和氢 - 锂/氟上层
机译:具有低游离氟浓度的掺氟玻璃的形成方法
机译:在LNG加工中使用低的全球升温潜能值,低的臭氧消耗潜能值,低易燃的氢氟烯烃,氙或碘化合物制冷剂
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