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王佑祥; 陈春华;
不详;
半导体薄膜; 二次离子质谱; 杂质;
机译:HgCdTe中杂质测量的二次离子质谱和飞行时间二次离子质谱研究
机译:在二次离子质谱深度分析期间,在GaAs / Algaas中的电活性和氢钝化Zn在二次离子质谱深度分析中
机译:多晶硅衬底的杂质分析:中性活化分析(NAA)和二次离子质谱(SIMS)
机译:部分〜1。产生铯(+)和碘(-)离子的双离子源,用于二次离子质谱分析。第二部分用反射飞行时间质谱仪研究基质辅助激光解吸。
机译:飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)在离子成像和俱乐部药物引起的认知缺陷的生物能分析中的综合应用
机译:二次离子质谱法定量分析化合物半导体中杂质的研究
机译:用于研究(HgCd)Te和CdTe中杂质和杂质运动的sIms(二次离子质谱)表征技术的开发与应用
机译:硅表面和硅基结构中杂质的定量二次离子质谱分析生产参考样品的方法
机译:通过二次离子质谱法分析复合半导体基质表面的杂质和空气中的杂质
机译:分析通过轨道膜渗透形成的液体中杂质的方法,并通过RF线性TRAP质谱分析仪在AT IMPACT超声气流中分析物离子的形成并传输分析物离子,以包含IN IT亚稳态激发原子
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