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中国科学院上海技术物理研究所;
上海尼赛拉电子元件有限公司;
碲镉汞材料; 离子注入; 修复方法; 损伤; 红外探测器; 束流密度; P-N结; 小剂量; 后处理; 光伏型;
机译:离子注入汞碲化镉的结稳定性
机译:离子注入碲化镉镉中的汞间隙生成
机译:多脉冲激光诱导汞镉碲化镉和碲化镉的损伤,具有1.06μm激光在皮秒内的激光
机译:MBE为红外检测应用而生长的汞碲化镉异质结:一种原位掺杂方法。
机译:从II–VI半导体材料碲化镉(CdTe)和硒化镉(CdSe)中浸出的离子物质的微生物毒性
机译:离子注入产生的硅p-n结的热电子发射
机译:作为(+) - 离子注入的碲化铅p-n结光电二极管。
机译:在碲化汞和碲化镉半导体合金中制备p-n结的方法
机译:在碲化镉中形成梯度带隙p-n同质结的方法
机译:碲化镉汞单晶材料的处理方法
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