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闵靖; 邹子英;
上海市计量测试技术研究院;
硅片; 氧; 深度分布; 电阻率; 热施主退火; 测试;
机译:经受快速热退火的氮化物涂层硅晶片中氧沉淀物的深度分布
机译:65 MeV氧离子辐照硅晶片中载流子寿命的深度分布
机译:植入氧晶片中绝缘体上硅层中电子陷阱状态的深入剖析以及绝缘体上硅/埋入氧化物界面附近的局部机械应力
机译:使用(111)硅应力测试芯片的层压组件倒装芯片中倒装芯片中的粘屑的表征
机译:硅藻硅中的氧同位素:对硅藻壳中硅水氧同位素分馏的新认识,以及硅藻δ-氧18值的应用,作为新墨西哥州Valles Caldera中更新世湖相岩心中古水文变异性的记录。
机译:二甲硅氧吡甲二甲硅氧化嗪的镁和纯钼衍生物的合成表征及生物学评价
机译:硬化测试方法在桉树片中的应用硬化测试方法在桉树片中的应用
机译:溴化物离子催化3,3-二苯基-6-氧杂-3-硅杂双环(3.1.0)己烷的二聚反应。 2,2,6,6-四苯基-4,8-二乙烯基-1,5-二氧杂-2,6-二硅杂环辛烷的结构测定和环收缩及2,2,4,4-四苯基-6-乙烯基 - 的合成1,3-二氧杂-2,4-
机译:从植物切片中以高含量表征生物硅的纳米颗粒的方法
机译:半导体晶片中的金属杂质深度分布是通过反复蚀刻水平晶片整个表面的蚀刻液并进行蚀刻液分析来确定的
机译:从切克劳斯基方法生长的硅锭切成的高掺杂硅晶片中的氧沉淀
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