首页> 中文期刊> 《化学进展》 >低介电常数介质薄膜的研究进展

低介电常数介质薄膜的研究进展

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

用低介电常数介质薄膜作金属线间和层间介质可以降低超大规模集成电路(ULSI)的互连延迟、串扰和能耗.从介质极化的原理出发,揭示了开发低介电常数介质薄膜的可能途径;综述了低介电常数介质薄膜的制备方法、结构与性能表征、工艺兼容性等领域的最新进展.

著录项

来源
《化学进展》 |2005年第6期|1001-1011|共11页
作者
王娟; 张长瑞; 冯坚;
展开▼
作者单位

国防科技大学航天与材料工程学院,新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室,长沙,410073;

国防科技大学航天与材料工程学院,新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室,长沙,410073;

国防科技大学航天与材料工程学院,新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室,长沙,410073;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类物理化学（理论化学）、化学物理学;薄膜技术;层介质膜;
关键词
低介电常数介质薄膜; 多孔薄膜; SSQ基介质; 纳米多孔SiO2薄膜; 含氟氧化硅(SiOF)薄膜; 含碳氧化硅(SiOCH)薄膜; 有机聚合物介质;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 低介电常数绝缘介质α-SiCOF薄膜及其制备方法 [J] . . 表面技术 . 2008,第4期
2. LSAWs测量低介电常数介质薄膜杨氏模量的信号处理 [J] . 肖夏 ,白茂森 ,李志国 . 天津大学学报 . 2007,第005期
3. 低介电常数绝缘介质氧化硅薄膜及其制备方法 [J] . . 无机盐工业 . 2005,第4期
4. 低介电常数微波介质陶瓷研究进展 [J] . 胡杰 ,吕学鹏 ,张天宇 . 材料导报 . 2017,第0z2期
5. 低介电常数微波介质陶瓷研究进展 [J] . 胡杰 ,吕学鹏 ,张天宇 . 材料导报：纳米与新材料专辑 . 2017,第002期
6. PECVD新型低介电常数SiCONF介质薄膜 [C] . 钱可嘉 ,丁士进 ,张卫 . 第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议 . 2009
7. 低介电常数介质薄膜及其金属化研究 [A] . 丁士进 . 2001

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号