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陈长生;
电子部华北计算技术研究所(NCI);
酸性化学镀; 沉积速率 ; 铜溶液; 化学镀铜 ; 镀层性能 ; 孔金属化 ; 抗剥强度; 醛型; 印制板制造; 还原剂 ;
机译:无甲醛化学镀铜的研究
机译:电镀参数和溶液化学性质对在电镀铜-焊料界面处的空洞倾向的影响在酸性铜溶液中(有或没有聚乙二醇)电镀
机译:自动催化无甲醛化学镀铜工艺的化学“启动”
机译:PTH中无甲醛化学镀铜的研究与应用
机译:腐蚀抑制剂壬基苯基乙氧基磷酸酯和在酸性溶液中在316L不锈钢上形成的膜的电化学和光谱研究。
机译:自组装单分子膜改性ABS基体上化学镀铜膜的比较研究
机译:半导体和催化剂与溶液的界面处的化学反应:I.化学镀铜中的锡钯催化剂。二。结晶砷化镓在含有络合剂的溶液中的溶解。
机译:酸性森林土壤的化学风化和溶液化学:土壤类型,生物过程和H +沉积的差异性影响
机译:无甲醛化学镀铜工艺及该工艺中使用的溶液
机译:无甲醛化学镀铜溶液
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