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白亚旭; 袁正希; 何为; 朱驭敏; 莫芸绮; 何波;
电子科技大学,四川,成都,610054;
元盛电子科技股份有限公司,广东,珠海,519060;
化学镀; Ni-P合金层; PCB; 埋嵌电阻;
机译:Ni-P电阻合金生产工艺基本参数对沉积在铝硅酸盐衬底上的电阻层的电阻和TWR的影响
机译:MnSO_4对化学镀Ni-P薄膜的微观结构和电阻特性的影响及其在PCB内嵌电阻器中的应用
机译:通过无铬工艺在AZ91D镁合金上获得的化学镀Ni-P / Ni-P-TiO2涂层的摩擦学行为
机译:通过无铬工艺在Mg和AZ31B镁合金上制备化学镀Ni-P涂层
机译:在肼溶液中在不锈钢基材上化学镀钯:镀液参数,沉积机理和沉积形态之间关系的研究。
机译:机械合金化过程中通过起始粒子的化学镀Ni-P形成AlNiCo纳米准晶相
机译:在溅射沉积的Al-Ni合金膜上直接化学镀Ni-P层
机译:不同技术制备的非晶态Ni-p合金的电阻率测量
机译:用于替代化学镀Ni-P的PCB ENIG工艺,电镀方法
机译:Ni-P合金涂层的电镀沉积浴和在难粘接的导电基材上获得Ni-P合金涂层的方法
机译:代替PCB ENIG工艺的化学镀NI-P,AG镀层方法
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