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纳米碳化硅表面修饰的工艺研究及结构表征

         

摘要

针对(SiC)p纳米微粒在应用中存在的易团聚、材料间相容性差等关键技术问题,采用化学镀方法对(SiC)p纳米微粒进行了表面修饰.设计了实验方案,优化了工艺参数.实验结果表明,预处理过程、镀液的温度、pH等对修饰效果影响较大.确定适合的工艺参数,镀液θ为45℃、pH为9.0.电子显微镜、能谱仪等仪器表征显示,修饰后的SiC微粒近球形,形貌均匀,有明显的核、壳部分,核壳处不同的衬度表明(SiC)p微粒表面沉积了较多的金属Ni,形成了碳化硅-镍核壳结构复合粒子.

著录项

  • 来源
    《电镀与精饰》 |2014年第4期|5-8,37|共5页
  • 作者单位

    黑龙江工程学院材料与化学工程学院,黑龙江哈尔滨150050;

    黑龙江工程学院材料与化学工程学院,黑龙江哈尔滨150050;

    黑龙江工程学院材料与化学工程学院,黑龙江哈尔滨150050;

    北京理工大学材料科学与工程学院,北京100081;

    黑龙江工程学院材料与化学工程学院,黑龙江哈尔滨150050;

    黑龙江工程学院材料与化学工程学院,黑龙江哈尔滨150050;

    黑龙江工程学院材料与化学工程学院,黑龙江哈尔滨150050;

    黑龙江工程学院材料与化学工程学院,黑龙江哈尔滨150050;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 合金的电镀;
  • 关键词

    (SiC)p微粒; 核壳结构; Ni; 化学镀; 结构表征;

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