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等离子体; 蚀刻; 参数;
机译:使用电感耦合等离子体对半导体蚀刻设备中AR等离子体参数的RF阻抗的相关性
机译:在电感耦合的H_2 / N_2等离子体中,采用组合等离子体工艺通过内部参数解释有机低k膜的蚀刻特性
机译:等离子体蚀刻反应器的反馈控制可改善蚀刻均匀性
机译:通过带有SEERS的物理等离子体参数进行实时等离子体蚀刻控制
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:SiO的等离子体参数和蚀刻特性
机译:使用电感耦合等离子体与半导体蚀刻设备中AR等离子体参数的RF阻抗的相关性
机译:用于监测氯 - 氦等离子体中多晶硅的等离子体蚀刻期间的蚀刻均匀性的光学诊断仪器。
机译:通过控制源功率和偏置功率的腔室参数,相对于选自离子密度,晶片电压,蚀刻速率和晶片电流的两个等离子体参数操作等离子体反应器腔室的方法
机译:通过转换多个等离子体参数的期望值以控制每个腔室参数的值,根据多个等离子体参数的期望值来控制等离子体反应器的腔室参数的方法
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