高分辨X射线双晶衍射技术在半导体薄膜材料研究中的应用

摘要

本文介绍了Ｘ射线双晶衍射技术的原理和对半导体外延膜的检测；对普遍关心的衬底与外延膜的 点阵失配、膜厚和成分及其变化的测定、衬底和外延膜完美性的检测以及超晶格结构和非常薄的外延膜 的评价等作了扼要的综述．